基本配置与功能
基本参数 | 参数 |
极限真空 | 4E-5Pa;(腔体洁净空载下，连续24小时抽气) |
漏气速率 | ≤5E-9Pa·m3/s（氦检漏率）/保压12小时≤5Pa |
压强控制精度 | 0.1Pa(工艺压强范围0.2-2Pa) |
膜厚均匀性 | ≤5%((最大值-最小值)/(最大值+最小值)) |
镀膜数据激光膜
序号 | 基本配置 | 主要参数与功能 |
1 | 阴极源 | 有2.5寸，3寸，4寸，6寸，8寸，12寸几种规格，阴极气动挡板，带角度调整 |
2 | 基片台 | 最大可装载基片210mm*210mm,带有旋转、升降功能；带有加热、水冷功能(二选一) |
3 | 真空系统 | 真空系统采用分子泵+机械泵的形式，带有旁抽系统，可不停主泵开腔(可选配低温泵) |
4 | 控制系统 | 采用PLC+PC机或PLC+触摸屏的方式，自动化程序操作。包含一键式抽气与充气功能。 |
5 | 手套箱 | (选配)可与镀膜设备连接，使取放基片在无水无氧的环境中进行 |
6 | 样品室 | (选配)采用真空机械手取放片，实现工艺室不破真空取放片 |