主要关键部件性能
靶材机构
晶体膜厚监控系统
基板机构
光学监控系统OMS
技术参数
真空室尺寸 | 直径1040mm,高度890mm |
极限真空 | 低于4.0E-5Pa |
漏气速率 | ≤5E-9Pa·m3/s（氦检漏率）/保压12小时≤5Pa |
恢复真空 | 40分钟之内达到1.1E-3Pa(不加热) |
主离子源 | 射频离子源，16cm,三焦点汇聚离子束 |
辅离子源 | 射频离子源，8cm或12cm,三片发散离子束 |
溅射靶系统 | 可左右调整(±25mm)可配置2-4块靶材，尺寸14寸 |
安装场所 | 设置空间：标准尺寸宽2500x深3000x高2850mm |