该设备采用电子束蒸发镀膜技术，配备进口电子枪、辅助 离子源，支持厚度70μm以内薄膜产品生产。 广泛应用于高精度光学膜(镜头、光通讯用器件)、高功率 激光器端面镀膜等。
真空室直径
Φ800/Φ1100/Φ1350/Φ1550
极限真空
低于4E-5Pa
漏气速率
≤5E-9Pa·m3/s（氦检漏率）/保压12小时≤5Pa
基板旋转机构
帽形伞具、平板、行星轮等，可选自动翻面机构
晶体膜厚控制系统
六探头+XTC-3膜厚仪
光学膜厚监控系统
GILITEK光学控制系统
技术参数
