-
1.高纯氧化物:一氧化硅、SiO,二氧化铪、HfO2,二硼化铪,氯氧化铪,二氧化锆、ZrO2,二氧化钛、TiO2,一氧化钛、TiO,二氧化硅、SiO2,三氧化二钛、Ti2O3,五氧化三钛、Ti3O5,五氧化二钽、Ta2O5,五氧化二铌、N
发布时间:2016-07-30 点击次数:524
-
分析现有光学镀膜机比较片机构在使用过程中存在的问题。根据现代光学真空镀膜机的发展趋势和实际生产中急需解决的问题,通过多方面的研究分析,优化设计新一代的镀膜机比较片结构,解决影响光学薄膜质
发布时间:2016-07-28 点击次数:153
-
根据理想气体状态方程,定义了真空背景周期,计算表明真空背景周期在数值上近似等于真空介电常数。镀膜设备基于点电荷的电场、电阻定律和位移电流假说,探讨了真空介电常数与宇宙背景温度的关系。1、引言 真空介电常数,又称为真空电容率,或称电常数,是
发布时间:2016-07-28 点击次数:323
-
真空发生器就是利用正压气源产生负压的一种新型,高效,清洁,经济,小型的真空元器件,这使得镀膜设备在有压缩空气的地方,或在一个气动系统中同时需要正负压的地方获得负压变得十分容易和方便。真空
发布时间:2016-07-27 点击次数:326
-
杰莱特做为真空镀膜机专业生产厂家,不乏检测仪表和专业技术人员,并有相当丰富的维修经验,因此,真空设备的检测和维修应该是没有问题的。而作为用户,除非技术力量雄厚,一般不具备或不完全具备条件来进行真空设备的维修。问:维修真空设备的要点是什么?答
发布时间:2016-07-27 点击次数:180
-
任何固体材料在大气环境下都能溶解、吸附一些气体。当镀膜机材料置于真空中时,就会因解溶、解吸而出气。对一般真空设备来说,材料的出气是真空系统中最主要的气源。常用的出气速率单位有:Pa·L/s·cm2。
发布时间:2016-07-26 点击次数:311
-
就目前的镀膜设备技术和应用情况来说,我国还处于世界领先地位。我国应用真空玻璃的工程达几十个,如天恒大厦、清华超低能耗实验楼、郑州图书馆、长沙滨江文化园等,我们建造了世界第一个全真空玻璃大
发布时间:2016-07-26 点击次数:190
-
1.关于巴-刑曲线 在工作气体种类、成分、气压和阴极材料已确定及其它条件不变的条件下,镀膜机阴-阳两极间的气体放电点火电压的高低可由巴-刑定律来说明,气体点燃电压Uz不仅和气压P、极间距d有关,而且和P与d的乘积有关(即Uz是P×d乘积的
发布时间:2016-07-25 点击次数:256
-
近年来,迅速发展的微波加热技术给微波食品的包装及需经微波杀菌消毒的一类商品的包装提出更高的要求,即包装材料不仅要有优良的阻隔性能,而且还要耐高温、微波透过性良好等性能,传统的包装薄膜很
发布时间:2016-07-25 点击次数:286
-
真空应用设备种类繁多,但无论何种镀膜机真空应用设备都有一套排除被抽容器内气体的抽气系统,以便在真空容器内获得所需要的真空条件。举例来说:一个真空处理用的容器,用管道和阀门将它与真空泵连接起来,当真空泵对容器进行抽空时,容器上要有真空测量装置
发布时间:2016-07-23 点击次数:256