温岭离子镀膜机

特点：

a)基板垂直放置，水平监控；

b)转靶左右可调，保证靶面中心和离子源最佳距离；

c)基板：12吋×1 ;

d)靶材：两靶或三靶可更换；

e)多光路监控。

f)工件夹具：12吋

工艺参数：

1）真空系统

a)极限真空度：4.0×10-5Pa 

b)抽至10Pa所用时间 10 Pa：≦ 10 分钟

c)漏率：3.0×10-5Pa m3/sec

2）控制精度

a)靶材旋转：0.005°

b)工件旋转: <1000RPM

c)编码器Encode: 12000lines;480000Counts/rev

d)膜厚修正板：0.005°

e)挡板:  position switch

3）光学监控系统OMS

a) 波长范围：380nm～1650nm

b) 光源稳定性 :白光< 0.1%，激光< 0.02%

c) 波长分辨率: 白光0.2nm，激光0.1nm

d) 波长准确度: 白光0.2nm ，激光0.1nm