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真空镀膜设备工艺对环境的要求

发布日期:2016-07-16 00:00 来源:http://www.gilitek.cn 点击:

        常规真空工艺对环境的要求

        所谓常规真空工艺系指没有特殊要求的真空工艺过程,这类真空装置(设备)对真空卫生的要求:

真空镀膜设备工艺对环境的要求

      (1)凡是处于真空中的真空镀膜设备零件,都要求无积存的污染源,表面无尘埃,无铁屑、无锈蚀;


      (2 )真空设备的真空室表面要光滑、无松软组织和气孔、无内焊缝等影响真空的缺陷;


      (3 )高真空设备中,真空室内的运动部件不得用机油作润滑剂,要用饱和蒸气压低的扩散泵油、硅油作润滑剂;法兰、观察窗的密封部件要涂以高真空油脂;


      (4)真空设备一般应在温度为15~30℃,相对湿度不高于70%的清洁空气流通的环境中工作,冷却水进水温度不高于25 ℃。


电真空工艺对环境的要求

         电真空结构材料除具有良好的机械性能和加工性能外,还要满足其他性能的要求,即容易除气、低的饱和蒸气压、一定的化学稳定性、一定的纯度和清洁度、合适的辐射能力等。所以电真空工艺具有特殊性,对清洁处理要求是极为严格的,应最大限度清除或减少零件的污染。


真空镀膜工艺对环境的要求

        真空镀膜工艺衬底(基片)表面的清洁处理很重要,基片进入镀膜室前均应进行认真的镀前清洁处理,达到工件去油、去污和脱水的目的。基片表面污染来自零件在加工、传输、包装过程所粘附的各种粉尘、抛光膏、油脂、汗渍等物;零件表面在潮湿空气中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的气体。这些污物基本上均可采用去油或化学清洗方法将其去掉。


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