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真空镀膜设备硬质涂层的发展、现状及未来

发布日期:2016-07-20 00:00 来源:http://www.gilitek.cn 点击:

       硬质涂层的市场随着加工技术的更高要求而不断扩大,在国内也具有越来越大的市场。硬质涂层在工具上的应用按照市场占有量的划分主要为:镀膜设备刀具涂层70%,模具涂层25%,零部件涂层5%。硬质涂层技术主要有阴极电弧离子镀技术和磁控溅射技术。电弧技术和磁控溅射技术的区别主要为:电弧技术可以获得接近90%的离化率和较快的沉积速率,但存在液滴的问题;磁控溅射技术可以获得平整的表面,但离化率和沉积速率都相对较低。

真空镀膜设备硬质涂层的发展、现状及未来

  目前,两种技术都在不断向前发展。磁控溅射技术也在不断进展,闭合磁场非平衡磁控溅射技术能够大幅度提高离化率,成为磁控溅射膜层质量提升的关键。随着中频孪生磁控技术和非平衡磁控溅射技术的结合,磁控溅射技术已经能够获得与电弧技术相当的优质膜层。


  未来随着工业需求的不断增加,对硬质涂层的要求也将愈发严格。未来的涂层将有两大趋势:超硬涂层和低摩擦系数涂层。

  1、超硬涂层

  超硬涂层一般是指维氏硬度在40GPa以上的硬质涂层。主要有:

  1)金刚石涂层(硬度为50-100GPa,与晶体取向有关)

  2)立方氮化硼(e-BN)涂层(硬度为50-80GPa)

  3)类金刚石涂层(DLC,因工艺不同硬度可在10GPa-60GPa的宽广范围内变动)

    4)碳氮涂层(CNx,硬度可达15GPa-50GPa)

  5)纳米复合涂层和纳米多层涂层(TiN/NbN纳米多层涂层硬度为51GPa,TiYN/VN纳米层涂层硬度高达78GPa)

  2、低摩擦系数涂层

  低摩擦系数涂层主要包括钼基涂层(二硫化钼),和碳基涂层(金刚石、类金刚石、碳氮涂层等),摩擦系数均可达到0.1以下。

80年代以来,由于计算机、电视机、手机、办公室自动化设备等,对平板显示器件的需求急剧增长,极大的促进了各类平板显示器件的发展。但是随着时间的推移,现在进入21世纪了,21世纪的变化是科技的变化,信息化的时代进入一种前所未有的科技力量发展。更多高科技的信息化产物展现我们面前,如平板显示器,平板电脑,智能手机,触屏显示等。由于平板显示器的兴起,催生起更多发展,今天我们就来谈谈真空镀膜在平板显示中的发展和应用。

  市面上有很多生产平板显示器的各类型厂商,都会用到真空镀膜技术,其实生产的ITO膜镀膜生产线设备是在优质浮法玻璃上采用真空磁控溅射技术,孪生阴极,中频溅射技术,并配以国际先进的控制系统,镀制SO2/ITO膜层,生产过程全部自动,连续进行。

  那么这种技术一旦应用到平板电脑上有什么效果和优势呢?

  ITO膜镀膜生产线镀膜平板显示器的特点:

  1、真空室体材料采用 SUS304 ,真空室内壁进行抛光处理,外壁采用抛光后喷珠处理。

  2、真空室之间采用独立门阀—插板阀隔开,可以实现有效隔断,稳定工艺气体。目前我们公司采用插板阀设计,它比目前国内通用的翻板阀密封效果更好,更耐用。

  3、传动采用磁导向,保障传动的稳定性。整条生产线的各段速度采用变频调速电机驱动,运行速度可调节。

  4、电气控制系统:触摸屏与PLC自动控制,人机对话方式来实现系统的数据显示、操作与控制在以后或者将来有更多的技术应用到平板显示器上,包括现在流行的触摸屏、未来的太阳能电池发展、微电子ITO导电膜玻璃、光电子和各种光学领域。充满了发展和未来广阔的前景。


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