现代真空镀膜设备膜厚的测量及监控方法

最直接的镀膜设备控制方法是石英晶体微量平衡法(QCM)，这种仪器可以直接驱动蒸发源，通过PID控制循环驱动挡板，保持蒸发速率。只要将仪器与系统控制软件相连接，它就可以控制整个的镀膜过程。但是(QCM)的精确度是有限的，部分原因是由于它监控的是被镀膜的质量而不是其光学厚度。此外虽然QCM在较低温度下非常稳定，但温度较高时，它会变得对温度非常敏感。在长时间的加热过程中，很难阻止传感器跌入这个敏感区域，从而对膜层造成重大误差。

光学监控是高精密镀膜的的首选监控方式，这是因为它可以更精确地控制膜层厚度(如果运用得当)。精确度的改进源于很多因素,但最根本的原因是对光学厚度的监控。OPTIMAL SWA-I-05单波长光学监控系统，是采用间接测控，结合汪博士开发的先进光学监控软件，有效提高光学反应对膜厚度变化灵敏度的理论和方法来减少终极误差，提供了反馈或传输的选择模式和大范围的监测波长。特别适合于各种膜厚的镀膜监控包括非规整膜监控。