1

新闻分类

产品分类

联系我们

杰莱特(苏州)精密仪器有限公司

联系人:

王先生+86-13584469633

           +86-512-58915051

张先生+86-18621525470

蒋经理+86-18666211019

地 址:sales@gilitek.cn

邮 编:215600

网 址:www.gilitek.com

              www.gilitek.cn





         

您的当前位置: 首 页 >> 新闻资讯 >> 技术中心

真空镀膜机需要化学成分的均匀性

发布日期:2017-12-16 00:00 来源:http://www.gilitek.cn 点击:

真空镀膜机在镀膜的时候,需要镀层表面的化学成分保持均匀性,这主要体现在以下三个方面:

1、厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,在光学薄膜的尺度上看也就是1/10波长作为单位,约为100A,真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度,也就是说要实现10A甚至1A的表面平整,具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。

2、化学组分上的均匀性: 就是说在薄膜中,化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性,SiTiO3薄膜,如果镀膜过程不科学,那么实际表面的组分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜的技术含量所在。

3、晶格有序度的均匀性: 这决定了薄膜是单晶,多晶,非晶,是真空镀膜技术中的热点问题。

镀膜机

相关标签:镀膜机

最近浏览:

在线客服
分享
欢迎给我们留言
请在此输入留言内容,我们会尽快与您联系。
姓名
联系人
电话
座机/手机号码