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导致磁控溅射镀膜机镀膜不均匀因素哪些?

发布日期:2016-06-18 00:00 来源:http://www.gilitek.cn 点击:

       磁控溅射镀膜机导致不均匀因素哪些?导致磁控溅射镀膜机不均匀的原因包括真空状态、氩气和磁场等三方面。

导致磁控溅射镀膜机镀膜不均匀因素哪些?

  磁控溅射镀膜机的主要工作过程是通过真空状态下正交磁场让电子轰击氩气形成的氩离子再轰击靶材,靶材离子沉积在工件表面成膜。

  真空状态就须抽气系统控制的,每个真空镀膜机设备的抽气口都得同时开动并且力度一致,这样就能控制好抽气均匀性,若抽气不均匀,在真空室内的压强就不可以均匀了,压强对离子运动是存在一定影响的,除此之外,抽气时间也得空子好,太短会导致真空度不够,但太长又浪费资源,不过有着真空计的存在,控制好不成问题。

  磁场是正交进行运行的,但你要将磁场强度做到百分之一均匀是不太可能,一般情况下磁场强处,成膜的厚度就越大,相反就小,所以会导致膜层厚度的不一致,但在生产中,因为磁场的不均匀引起膜层不均匀情况却非常见的,这是为什么呢?

  原来磁场的强弱虽不好控制,但工件也在进行运转,且是靶材原子多次沉积才能结束镀膜工序,在一段时间内,虽某些部位厚,某些薄,但另个时间里,磁场强作用下原来薄的部位会沉积上厚的,在厚部位沉积上薄的,这样反复多次,整个膜层最终成膜之后,均匀性还是很好的。

  氩气的送气均匀性也会对膜层均匀性影响,原理实际上和真空度差不多,因为氩气进入,真空室内压强会出现变化,均匀的压强大小能够控制成膜厚度均匀性。

      装饰性真空镀的涂层一般分为底涂层和面涂层两种,它们主要起提高膜层的结合力,降低镀件表面的粗糙度,提高光亮度,保护金属膜层的作用。今天我们就先来看看真空镀膜机对底涂层有何要求。

1、对镀件与镀膜层有良好的接触性能与较高的结合力,热膨胀系数相差小,不起反应,流平性能好。

2、具有良好的真空性能。底涂层固化后放气量少、热应力小、耐热性能好。

3、成膜性能好,涂层的致密度、覆盖能力、抗溶剂能力与耐光照能力等性能良好。

4、与面涂层有良好的相溶性。由于镀膜层极薄有孔隙,要求底涂层和面涂层的溶剂和稀释剂有良好的相溶性。

5、施涂性能良好。流平性能良好,有适当的黏度、固化时间短。


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