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真空镀膜机蒸镀塑料件的工艺

发布日期:2016-08-08 00:00 来源:http://www.gilitek.cn 点击:

,来料检查

  2,干燥,待真空镀膜机镀件来料时含较多水分,需干燥处理3-5h,温度为50-60oC; 3

真空镀膜机蒸镀塑料件的工艺

  3,上架,一般注塑时基本按真空镀膜生产,因此待真空镀膜镀件表面一般油污较少经过一般的擦拭就可上架,但是来料油污多时需进行去污处理。方法是用清洁剂逐件刷洗,漂洗,烘干。油污严重时还需用清洗剂在50-600C,浸泡15-20min进行脱脂处理;

  4、除尘,这道工序是保证真空镀膜镀膜质量的关键之一,方法有两种:一种是用吸尘器对准待真空镀膜镀件仔细地除尘,另一种是用高压其“吹尘”的方法;

  5、涂底漆,涂底漆是保证真空镀膜镀膜质量的关键之二;

  6、烘干,涂漆流平后需进行干固处理,方法有红外线加热法,电热加热法及紫外线(UV)固化法等,固化温度为60-700C,固化时间为1.5-2.5h;

  7、真空镀膜,真空镀膜是保证真空镀膜镀膜质量的关键。 真空镀膜的镀膜操作:待真空镀膜镀件上架并装上钨丝,然后入炉,检查接触是否良好,转动正常,关真空镀膜真空室,抽真空。 真空镀膜蒸发镀铝,作为装饰膜真空镀膜蒸铝时的真空镀膜真空度控制在(1-2)X10-2Pa,真空镀膜蒸发采用快速蒸发可减少氧化概率,又不会使真空镀膜膜层的组织结构变粗。 冷却充气,真空镀膜蒸铝以后,即可充气出炉;

  8、涂面漆,保护真空镀膜的金属膜层,为着色工作做准备; 9着色,面漆彻底固化后可进行染色处理。

  真空镀膜设备有关问题答复

  1. 建议参照生产量掌握真空镀膜设备靶材厚度的消耗情况:

  前提: 真空镀膜设备靶材厚度相同。

  比如目前贵厂主要是规格为1.7mm厚的海绵真空镀膜设备镀膜,相信目前已经明确大约生产多少平米时该换靶材,其他规格以此类推。

  2. 真空镀膜设备靶材厚度是根据磁场、电场、强度以及板材标准厚度等来确定。

  可选厚度最佳范围:磁场、电场、强度三者综合指标来确定厚度最佳范围。

  选用不同厚度的真空镀膜靶材时要注意调节极靴的位置。

  3. 延时开真空镀膜室门的原因

  海绵厚度小于1.5mm时:由于溅射功率较低,,真空镀膜完毕可立即开门。

  海绵厚度大于1.5mm时:由于真空镀膜设备溅射功率较高,真空镀膜室内温度比室温高得多,不允许真空镀膜完毕立即开门,目的如下:

  a. 真空镀膜室温度比室温高得多时,膜淀积后在真空镀膜室内进行适当的保温,使膜内部结构稳定,表面形成一层极薄的钝化膜,使新淀积的膜尽量不暴露或少暴露于大气中。

  b. 真空镀膜室温度比室温高得多时,膜淀积后立即开门,人无法操作。

  4.在海绵能够镀透,其性能能满足要求的前提下,尽量采用较低的功率,以使海绵基体的温度不致过高并且省电,海绵基体的温度与功率成正比,功率过大会造成海绵碳化,谈不上产品质量

  ZZ-560型射频磁控溅射真空镀膜设备

  一、用途及特点

  1. 为单室立式结构的高真空多功能真空镀膜设备,射频磁控溅射真空镀膜、直流磁控溅射真空镀膜的组合,既能满足各类膜层的实验研究,又能减少射频辐射的机会,当溅射金属材料时,可采用直流磁控溅射真空镀膜;当溅射非金属材料时,可采用射频磁控溅射真空镀膜.

  2. 可真空镀膜膜层:金属单质膜(如Al、Ni)、合金膜、氮化物膜、碳化物膜、氧化物膜、其它非金属化合物膜.

  二、主要技术指标和外部设施要求

  (一) 技术指标:

  1. 真空镀膜室型式: 立式圆筒形、间歇工作

  2. 真空镀膜室尺寸: φ600×400

  3. 极限真空度: 5×10-3Pa

  4. 压升率: ≤2Pa/h

  5. 靶数量: 2个

  6. 靶功率: 单靶2KW

  7. 加热温度: 室温~150℃

  8. 工件最大尺寸: 垂直方向最大尺寸≤100mm

  9. 总功率: 25KW

  (二)外部设施要求: (用户自备)

  1. 电源: 380V

  2. 气源:

  压缩空气: 净化干燥,使用压力0.4~0.6Mpa

  高纯氩气: 99.999%

  高纯氮气: 99.999%

  其它气体

  3.冷却用水

  压力: 1.5~2.5Kg/cm2、水温<20℃

  4.占地面积: 20m2

  三、主要组成部分:真空镀膜室、真空系统、充气系统、气动系统、水路系统、电控系统

  1.真空镀膜室

  真空镀膜真空室体、靶装置、传动系统、加热器、观察窗、靶挡板机构、隔热屏、放气阀.

  1).真空镀膜室体:为立式园筒形侧开门不锈钢结构.

  2).靶装置:靶体及其零部件、磁体、屏蔽罩

  靶型式:园形平面靶

  靶面有效尺寸:φ120

  靶位排布:侧面对放

  靶特点:采取2个同心环磁体,每个同心环均由若干个磁柱

  组成环状,可拓宽靶刻蚀区和改善靶原子的沉积分布,从而提高膜厚的均匀度.

  靶-基距:靶与基片的距离为50~80连续可调

  3).传动系统:电机、主轴、密封箱、轴承、水冷箱等等.

  4).加热器: 管状加热器

  2.真空系统:

  扩散泵: K-200T

  罗茨泵: ZJ-30

  旋片泵: 2X-8

  冷阱: DN200

  气动高真空挡板阀: 3个

  电磁真空带充气阀

  波纹管: 3套

  不锈钢连接管道: (1Cr18Ni9Ti )若干套

  泵架:

  3.充气系统:采用双路质量流量控制器自动充气.

  流量显示仪: D08-2C/ZM

  质量流量控制器: D07-7A/ZM 2个

  电磁截止阀: DJ2B-301 2个

  充气管: 00Cr17Ni14Mo2不锈钢管

  三通及四通若干:

  真空胶管及托架:

  4.气动系统:气动三联件、电磁换向阀、阀板、气管、气嘴、支架等

  5.水冷系统:进水总管、回水总管、支架、球阀、水管及附件、电接点压力表.

  6.电控系统:

  靶电源、加热控制电源、传动系统控制、真空测量控制系统及各类仪表、按钮、电控柜柜体等。

  真空镀膜Low-E膜特点

  当今几乎所有的真空镀膜Low-E膜都是以薄的真空镀膜银膜为基础。为了保持玻璃在可见光的高透过率并保护真空镀膜银膜免遭侵蚀,必须在真空镀膜银膜的二面加上高折射率材料的减反射和保护真空镀膜膜层。为了进一步保护真空镀膜银膜,还要增加一个所谓“阻挡层”。目前在市场上真空镀膜Low-E玻璃有各种不同的设计真空镀膜膜系。

  真空镀膜Low-E玻璃的最显著特点是它的低传热系数K,而且K值是随着面电阻和真空镀膜镀层发射率降低而减少。当今以真空镀膜银为基础的真空镀膜Low-E镀层能够将发射率降低到ε=0.04,再加上真空镀膜沉积无环境污染,使它在当今玻璃真空镀膜镀膜领域中占有主导地位。目前这种真空镀膜Low-E玻璃的最大的真空镀膜系统可以在45秒内生产一块3.2米×6米的玻璃,相当于年产量为8百万平方米。

  最近国外又开发了一种可经受700℃高温处理(如弯曲或回火)的真空镀膜Low-E膜。为了确保这种真空镀膜设备Low-E膜在高温下具有良好的耐久性,要求每层真空镀膜膜层都必须非常致密并且没有空穴。

  MAD—8B多弧离子真空镀膜设备

  一、用途及特点

  1、本机是镀制耐磨涂层的专用设备。

  2、本机可镀制膜层:金属单质膜、氮化物等反应化合物膜,可作为耐磨、耐腐蚀及装饰涂层。

  3、工件膜层均匀。

  4、本机采用进口PLC进行控制,可实现手动、自动功能。能对生产

  工艺流程实时显示,以监测整个真空镀膜过程。

  二、技术性能指标

  1、 结构形式: 立式圆形、间歇工作

  2、 体内腔尺寸: φ1000×1300

  3、 极限真空度: 2.6×10-3Pa

  4、 升压率: 2Pa/h

  5、 靶数量: 8个

  6、 烘烤温度: 400℃

  7、 装载量: φ6MM HSS钻头约1000支

  8、 最大加工尺寸:φ500×1000

  9、 控制方式: 手动/自动

  10、 总功率: 70 KW

  11、 占地面积: 40M2

  三、主要部份及特点

  本真空镀膜设备主要部份包括:真空镀膜室、真空系统、充气系统、气动系统、水冷系统、电控系统。

  1、真空镀膜室

  真空镀膜室主要由真空镀膜室体、多弧靶、工件转架及传动系统、烘烤装置、放气阀等组成。

  1.1、真空镀膜室体:

  立式圆筒结构,前开门,双层水冷,材质均为不锈钢,有利于提高真空镀膜膜层质量,内设有不锈钢屏蔽。镀膜室体顶部设有备用孔,可供设备改型时备用,真空镀膜室体外表面喷砂处理,呈亚光金属银色。

  1.2、多弧靶:8套(Ti靶材)

  靶材尺寸:φ65×32

  1.3、工件转架及传动系统

  该系统由转架(定盘)、动盘、自转轴、主传动轴、密封箱、减速器、直流电机等部分组成。定盘及自转轴装拆方便,自转轴上夹具可根据各种不同工件形状用户自行设计。具备公转、自转功能,速度可调,运转平稳,保证真空镀膜膜层均匀。

  具备偏压轰击引入机构,确保真空镀膜膜层的牢固度。

  1.4、烘烤装置:

  真空镀膜设备用铠装真空加热器

  2、真空系统

  该系统由2X-70旋片泵、ZJ—300罗茨泵、K-500TD扩散泵及冷阱、电磁阀、气动挡板阀以及它们的连接管道等组成。

  K-500TD扩散泵采用国内最先进产品,具有抽速大,返油低等特点,有利于提高膜层质量。为了镀膜时调节主抽空管道的通导,高阀和镀膜室之间设置了手动可定位节流挡板

  3、充气系统:

  采用双路质量流量控制器控制进气、可自动进气。该系统的特点是:质量流量控制器来控制充气量。使靶极在恒压强上进行工作,充入的气量恒定,这样保证膜层的均匀性和质量。

  4、气动系统

  本系统由电磁换向阀、气动三联件、阀板、管路等组成,负责提供所有气动阀门的开启及靶触发用。电磁换向阀采用日本SMC原装进口产品,以确保靶工作的可靠性。

  5、水冷系统

  该系统由进水总管、回水总管、支架、球阀、水管及其附件、电接点压力表等组成。用于对多弧靶、扩散泵、罗茨泵、旋片泵、传动系统等进行冷却。当水压不足时具备报警功能并切断相关电源,以避免损坏设备。

  6、电控系统

  电控系统由进口PLC机、靶电源、传动系统控制、真空系统控制、气动系统控制、真空镀膜测量系统控制、及各类仪表、按钮、电控柜柜体等组成。

  设备各部分之间及内部的逻辑关系及保护系统均由PLC完成。该系统抗干扰能力强,各部份出现故障能自动指示报警。


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