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真空镀膜机薄膜均匀性

发布日期:2017-07-28 00:00 来源:http://www.gilitek.cn 点击:

真空镀膜机薄膜均匀性


1.厚度上的均匀性:也能够理解为粗糙度,在光学薄膜的标准上看(也即是1/10波长作为单位,约为100A),真空镀膜机的均匀性现已相当好,能够轻松将粗糙度操控在可见光波长的1/10范围内,也即是说关于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有任何妨碍。

 

2.化学组分上的均匀性: 即是说在薄膜中,化合物的原子组分会由于标准过小而很简单的发生不均匀特性,SiTiO3薄膜,假如镀膜进程不科学,那么实践外表的组分并不是SiTiO3,而可能是其他的份额,镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜的技能含量地点。

 

3.晶格有序度的均匀性: 这决议了薄膜是单晶,多晶,非晶,是真空镀膜技能中的热点问题。

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