真空镀膜机薄膜均匀性

真空镀膜机薄膜均匀性

1.厚度上的均匀性：也能够理解为粗糙度，在光学薄膜的标准上看（也即是1/10波长作为单位，约为100A），真空镀膜机的均匀性现已相当好，能够轻松将粗糙度操控在可见光波长的1/10范围内，也即是说关于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何妨碍。

2.化学组分上的均匀性： 即是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于标准过小而很简单的发生不均匀特性，SiTiO3薄膜，假如镀膜进程不科学，那么实践外表的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的份额，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技能含量地点。

3.晶格有序度的均匀性： 这决议了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技能中的热点问题。