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PVD是英文PhysicalVaporDeposition的缩写,中文意思是“物理气相沉积”,是指在真空条件下,用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。2.PVD镀膜和PVD镀膜机:PVD(物理气相沉积)镀膜技术主要分为三类
发布时间:2016-09-01 点击次数:194
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真空镀膜,就是置待镀材料和被镀基板于真空室内,镀膜设备采用一定方法加热待镀材料,使之蒸发或升华,并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。它在塑料制品上的应用最广泛,不少真空镀膜机厂表示,塑料具有易成型,成本低,质量轻,不腐蚀等特点,塑料制品
发布时间:2016-08-27 点击次数:122
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最直接的镀膜设备控制方法是石英晶体微量平衡法(QCM),这种仪器可以直接驱动蒸发源,通过PID控制循环驱动挡板,保持蒸发速率。只要将仪器与系统控制软件相连接,它就可以控制整个的镀膜过程。但是(QCM)的精确度是有限的,部分原因是由于它监控的
发布时间:2016-08-22 点击次数:142
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1、例行保养生产设备中发现了一个不好的迹象,立即解决。 真空镀膜机不要认为这油定期更换,等待维修时间,转子泵严重磨损可能。例如,轴承的一些卡工件转架,更换轴承,然后等到它完全打破了,可
发布时间:2016-08-22 点击次数:188
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为考核镀膜工艺的稳定性和镀膜耐磨性的重复性,镀膜设备对84炉高速钢试片和50炉装于不同位置的142片不锈钢试片镀非晶金刚石膜120~150nm后进行耐磨性试验,结果分别示于图2和图3。图2表明,在高速钢基材上,非晶金刚石膜的最低耐磨寿命为2
发布时间:2016-08-20 点击次数:350
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真空镀膜机的一些常见问题与解决办法随着镀膜技术的快速增长,各种类型的真空镀膜机也开始逐渐出现。但是论起薄膜的均匀性,恐怕所有的真空设备镀制的薄膜的均匀性都会受到某种因素影响,现在我们就溅控溅射镀膜机来看看造成不均匀的因素有哪些
发布时间:2016-08-15 点击次数:330
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,来料检查 2,干燥,待真空镀膜机镀件来料时含较多水分,需干燥处理3-5h,温度为50-60oC;3 3,上架,一般注塑时基本按真空镀膜生产,因此待真空镀膜镀件表面一般油污较少经过一般的擦拭就可上架,但是来料油污多时需进行去污处理。方
发布时间:2016-08-08 点击次数:318
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真空镀膜-光学材料(纯度:99.9%-99.9999%)高纯氧化物一氧化硅、SiO,二氧化铪、HfO?,二硼化铪,氯氧化铪,二氧化锆、ZrO2,二氧化钛、TiO2,一氧化钛、TiO,二氧化硅、SiO2,三氧化二钛、Ti2O3,
发布时间:2016-08-08 点击次数:306
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溅射气压对磁控溅射成膜速率的影响在直流磁控溅射过程中,溅射气压(工作气压)是一个很重要的参数,它对溅射速率,镀膜机沉积速率以
发布时间:2016-08-06 点击次数:204
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镀膜设备用高能粒子(通常是由电场加速的正离子)轰击固体表面,固体表面的原子、分子与入射的高能粒子交换动能后从固体表面飞溅出来的现象称为溅射。溅射出来的原子(或原子团)具有—定的能量,它们可以重新沉积凝聚在固体基片表面上形成薄膜,称为溅射镀膜
发布时间:2016-08-06 点击次数:150